Nqus Txheej Tshuab Nqus Txheej Tshuab Chaw tsim tshuaj paus Nqus txheej khoom txheej txheem ntxuav

Cov khoom siv lub tshuab nqus tsev yuav tsum tau muab ntxuav ua ntej lub tshuab nqus tsev ntawm lub tshuab nqus tsev txheej txheem kom tshem tawm cov pa phem los ntawm qhov chaw ntawm lub workpiece los yog cov khoom siv system; kev tu saum npoo ntawm qhov chaw ntawm lub teeb txheej tshuab kuj tseem tsim nyog, vim tias cov pa roj thiab vapor los ntawm cov pa phem tsis yog nws yuav ua rau lub tshuab nqus tsev tsis tuaj yeem tau txais lub tshuab nqus tsev uas xav tau. Ntxiv mus, vim muaj cov kab mob sib kis, nws tseem yuav cuam tshuam rau lub zog thiab kev sib khi ua haujlwm ntawm lub tshuab nqus tsev sib txuas.

Lub tshuab nqus tsev txheej tshuab muaj kuab paug tuaj yeem txhais tau tias "txhua yam khoom siv tsis zoo lossis lub zog", ntau lub tshuab arc ion txheej tuaj yeem muab faib ua cov khoom, roj thiab kua raws li lub cev muaj kuab paug, lawv muaj nyob rau hauv daim ntawv ntawm zaj duab xis lossis granular. . Nyob rau hauv cov nqe lus ntawm nws cov yam ntxwv tshuaj, nws yuav ua tau nyob rau hauv ib tug ionic los yog covalent lub xeev, thiab yuav ua tau inorganic los yog organic.

Qhov saum npoo ntawm lub tshuab nqus tsev coater raug rau huab cua yog feem ntau raug rau cov kab mob. Muaj ntau qhov chaw ntawm kev sib kis. Cov kab mob thawj zaug feem ntau yog ib feem ntawm cov txheej txheem tsim ntawm qhov chaw nws tus kheej. Adsorption phenomena, tshuaj lom neeg cov tshuaj tiv thaiv, leaching thiab ziab cov txheej txheem, kho tshuab, thiab diffusion thiab segregation txheej txheem tag nrho ua rau muaj kev sib kis ntawm ntau yam khoom. Cov ntau hom kab mob ntawm qhov chaw ntawm lub tshuab nqus tsev yog raws li nram no.

① Roj: lubricants, txiav kua, nqus roj, thiab lwm yam., uas muaj paug thaum ua, sib dhos, thiab ua haujlwm;

② Dej raws li: tes tawm hws thaum ua haujlwm, dej vapor thaum tshuab, qaub ncaug, thiab lwm yam;

③Surface oxide: nto oxide tsim los ntawm cov khoom uas tau muab tso rau hauv cov huab cua los yog muab tso rau hauv cov huab cua ntub ntev ntev;

④ Cov kua qaub, alkali thiab ntsev: cov khoom seem thaum ntxuav, tes hws, cov zaub mov hauv dej, thiab lwm yam;

⑤ Polishing residue thiab plua plav thiab lwm yam organic teeb meem hauv huab cua puag ncig.

Raws li qhov yuav tsum tau ua, lub tshuab nqus tsev ntxhua khaub ncaws tuaj yeem muab faib ua ob pawg: atomic-level clean surface thiab txheej txheem thev naus laus zis huv si.

Kev tu ua haujlwm nyob rau hauv qhov chaw thaum ntxov ntawm lub tshuab nqus tsev txheej tuaj yeem txo qhov teeb meem ntau, zam qhov tshwm sim ntawm ntau yam teeb meem me me hauv kev tswj cov tshuab sputtering, thiab muaj txiaj ntsig zoo rau kev ua haujlwm thiab cov txheej txheem zoo. ntawm lub tshuab nqus tsev txheej tshuab. Nws tuaj yeem txhim kho kev ua haujlwm ruaj khov ntawm tag nrho cov hlab ntsha phab ntsa thiab lwm qhov chaw hauv lub tshuab nqus tsev nyob rau hauv ntau yam kev ua haujlwm. Cov kev khiav hauj lwm no muaj xws li: kub kub, tsis kub, thiab emission thiab bombardment ntawm electrons, ions, photons los yog hnyav hais.